脉冲激光沉积系统（ Pioneer 120 Advanced PLD System）

名称：脉冲激光沉积系统

Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于卓越经验的创新设计，利用PLD 开展了深入广泛的研究，建立了获得最佳薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压（>100 Torr）下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能（压力范围可从额定初始压强到大气压）。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的最大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得最佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离，以达到最优的沉积条件。

• 作为完整PLD 实验室解决方案供应商，我们还可提供：248nm 激光器（准分子、固体等），激光气体柜，激光器和光学器件 桌，以及光学器件等。
• 带* 的项目均可客户化。

脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD 是一种“ 数字” 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（Å/pulse）。
• Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
• Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域最为广泛使用的商业化系统
• Neocera 不仅为客户提供最基本的PLD 系统，也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案